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立式MBE-400型分子束外延生長設備
編號:SN20151013154029889
類別:蒸發鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        分子束外延主要研究的是不同結構或不同材料的晶體和超晶格的生長。該法生長溫度低,能嚴格控制外延層的層厚組分和摻雜濃度。

     

    設備組成

        該系統主要由真空獲得系統、外延生長系統(外延室)、快速進樣系統(進樣室)、高能電子衍射系統、電器控制系統、計算機控制系統等組成。

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